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RO5200 Ta1 Objetivo de rotación de tántalo Objetivo de tubo de tántalo 100 mm Para CVD PVD
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xDatos del producto
| Nombre | Objetivo giratorio de tántalo | Grado | El valor de las emisiones de CO2 es el valor de las emisiones de CO2 de los combustibles fósiles. |
|---|---|---|---|
| Densidad | 160,68 g/cm3 | Peso atómico | 180.94788 |
| Método de pulverización | D.C. | Conductividad térmica | 57 W/m.K |
| Resaltar | Objetivo de rotación de Tántalo CVD,Objetivo de Tántalo Ta1,Tubo de tántalo Objetivo 100 mm |
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Descripción de producto
Información sobre el producto:
El objetivo del tubo de tántalo es un objetivo de tántalo tubular, también conocido como objetivo giratorio de tántalo.
| Nombre | Objetivo de rotación de tántalo Objetivo de tubo de tántalo |
| Purificación | ≥ 99,95% |
| Grado | Se aplicarán las siguientes medidas: |
| Densidad | 16.68 g/cm3 |
| Peso atómico | 180.94788 |
| Método de pulverización | D.C. |
| Conductividad térmica | 57 W/m.K |
| Coeficiente de expansión térmica | 6.3 x 10-6 /K |
| Tamaño | OD: 20 ~ 300 mm espesor de la pared: ≥ 0,5 mm |
Aplicación del objetivo de rotación Ta:
El objetivo del tubo de tántalo es una materia prima de tántalo de alta pureza para deposición de pulverización, que se puede utilizar en semiconductores,Display de deposición química de vapor (CVD) y deposición física de vapor (PVD) y aplicaciones ópticasLos detalles son los siguientes:
- para semiconductores;
-Displays de deposición química de vapor (CVD);
-Displays de deposición física de vapor (PVD);
- Aplicaciones ópticas.
Nota:Proporcionamos servicios personalizados. Si no puede encontrar el objetivo que desea, póngase en contacto con nosotros directamente. Podemos personalizar según sus requisitos.
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