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David

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PVD recubrimiento blanco de pulverización de tántalo para el recubrimiento de semiconductores y recubrimiento óptico

Lugar de origen	China
Nombre de la marca	PRM
Certificación	ISO9001
Número de modelo	de costumbre
Cantidad de orden mínima	1 por ciento
Precio	Negotiate
Detalles de empaquetado	caja de madera contrachapada
Tiempo de entrega	Entre 5 y 7 días
Condiciones de pago	T/T
Capacidad de la fuente	5tons/month

Éntreme en contacto con gratis las muestras y los vales.

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Datos del producto

Nombre	Objetivo de recubrimiento PVD de tántalo	Grado	Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de gases de efecto invernadero.
Purificación	el ≥99.95%	Densidad	160,68 g/cm3
Superficie	Superficie trabajada a máquina	Estándar	Las demás partidas
Estado de la entrega	con anillado	Forma de las piezas	Objetivo plano Objetivo giratorio Personalización de forma especial
Resaltar	Objetivo de recubrimiento óptico de tántalo , Objetivo de pulverización de tántalo con revestimiento PVD , Objetivo de pulverización de tantalo con revestimiento de semiconductores

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Descripción de producto

Información sobre el producto:

Nombre	Objetivo de tóntalo para revestimiento PVD
Grado	Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de gases de efecto invernadero.
Purificación	≥ 99,95%
Densidad	16.68 g/cm³
Superficie	Superficies mecanizadas, sin agujeros, arañazos, manchas, burros y otros defectos
Estándar	Las demás partidas
Forma de las piezas	Objetivo plano, objetivo giratorio, personalización de forma especial

PVD recubrimiento blanco de pulverización de tántalo para el recubrimiento de semiconductores y recubrimiento óptico 0

Contenido químico del blanco de tántalo para revestimiento de PVD:

Grado	Principales elementos		Contenido de impurezas inferior al %
	- ¿ Qué?	Nb	Fe	Sí, sí.	¿ Qué?	No	¿ Qué pasa?	Ti	Nb	¿ Qué?	C. Las	H.	No
T1	Quédate.	¿Qué quieres decir?	0.005	0.005	0.002	0.01	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
Ta2	Quédate.	¿Qué quieres decir?	0.03	0.02	0.005	0.04	0.03	0.005	0.1	0.03	0.01	0.0015	0.01
Se trata de:	Quédate.	Se trata de un5	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	¿Qué quieres decir?	0.03	0.01	0.0015	0.01
TANb20	Quédate.	17.0 ¢ 23.0	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	¿Qué quieres decir?	0.03	0.01	0.0015	0.01
Ta2,5 W	Quédate.		0.005	0.005	0.002	3	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
T10W	Quédate.		0.005	0.005	0.002	11	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01

Características del objetivo de tántalo PVD:

Punto de fusión alto,
Baja presión de vapor,
Buen rendimiento en frío,
Alta estabilidad química,
Resistencia fuerte a la corrosión del metal líquido,
La película de óxido de superficie tiene una constante dieléctrica grande

Aplicación:

El objetivo de tántalo y el objetivo de cobre se soldan, y luego se realiza una pulverización de semiconductores u ópticos,y los átomos de tántalo se depositan en el material del sustrato en forma de óxidos para lograr un recubrimiento de pulverizaciónLos objetivos de tántalo se utilizan principalmente en el recubrimiento de semiconductores, recubrimiento óptico y otras industrias.El metal (Ta) se utiliza actualmente principalmente para revestir y formar una capa de barrera a través de la deposición física de vapor (PVD) como material objetivo.

Podemos procesar de acuerdo con el dibujo del cliente, y producir Ta varilla, placa, alambre, papel, crisol, etc.

Por favor envíenos una consulta para más información.

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PVD recubrimiento blanco de pulverización de tántalo para el recubrimiento de semiconductores y recubrimiento óptico

Objetivo de recubrimiento óptico de tántalo

Objetivo de pulverización de tántalo con revestimiento PVD

Objetivo de pulverización de tantalo con revestimiento de semiconductores