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Palabras clave [ semiconductor coating tantalum sputtering target ] partido 5 productos.
PVD recubrimiento blanco de pulverización de tántalo para el recubrimiento de semiconductores y recubrimiento óptico
| Nombre: | Objetivo de recubrimiento PVD de tántalo |
|---|---|
| Grado: | Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de gases de efecto invernadero. |
| Purificación: | el ≥99.95% |
blancos de la farfulla del molibdeno de 20m m para los productos del molibdeno del disco del molibdeno de la blanco del molibdeno de la industria del semiconductor
| nombre: | Blancos de la farfulla del molibdeno para la industria del semiconductor |
|---|---|
| Material: | Molibdeno y aleación de molibdeno |
| Pureza: | 99,95% |
Tantalio blanco de alta pureza con recubrimiento de pulverización Tantalio disco blanco 99,95% 99,999%
| Nombre: | Objetivo de revestimiento con pulverización de tántalo |
|---|---|
| Grado: | Se aplicarán las siguientes medidas: |
| Purificación: | 99.95% 99,99% |
Zr702 Zr705 Objetivo de zirconio Titanio aleación de zirconio Objetivo de revestimiento por esputado
| Nombre: | Zr702 Zr705 Objetivo de zirconio Titanio aleación de zirconio Objetivo de revestimiento por esputado |
|---|---|
| El material: | Zirconio y aleación de zirconio |
| Grado: | El valor de las emisiones de CO2 de los combustibles renovables incluidos en el anexo I del Reglamen |
Disco redondo de tántalo recocido de 10 mm de grosor ASTM B708 Ta
| Nombre: | Discos de tántalo |
|---|---|
| Grado: | Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de gases de efecto invernadero. |
| El grosor: | 0.2 ~ 50 mm |
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